実験・評価装置


 

MOCVD装置

名称

対象物質

メーカー

Bi化合物膜作製用

Bi化合物全般

自作

導電性酸化物薄膜作製用

SrRuO3, RuO2

自作

Pb化合物膜作製用

Pb化合物全般

自作

PZT薄膜作製用

Pb(Zr,Ti)O3

日本酸素

 

 

その他の成膜装置

名称

対象物質

メーカー

RFマグネトロンスパッタ1号機

SrRuO3, LaNiO3, Pt

RST

RFマグネトロンスパッタ2号機

(Ba,Sr)TiO3, YSZ, CeO2

RST

RFマグネトロンスパッタ3号機

Silicide

 

パルスレーザー堆積(PLD)装置

Bi化合物全般

パスカル

電子ビーム蒸着装置

Pt, Au

 パスカル

 

 

評価装置

名称

型番

メーカー

高分解能4X線回折装置

X’pert-MRD

Philips(現PANalytical

エネルギー分散型蛍光X線分析装置

SEA2010

SII

波長分散型蛍光X線分析装置

PW2404

Philips(現PANalytical

強誘電体評価システム

FCE

東陽テクニカ

インピーダンス・アナライザ

4194A

HP(現Agilent

半導体パラメータ・アナライザ

4155B

Agilent

極低温プローバ

Ark-Helips-3

ナガセ電子機器サービス

後方散乱ラマン分光装置

 

愛宕技研

 

 

他研究室所有の装置 (いつも使わせて頂きありがとうございます)

名称

型番

メーカー

オートクレーブ

X線回折装置

RINT2100

Rigaku

走査型プローブ顕微鏡

SPA-400

SII

走査型電子顕微鏡

S-4800

HITACHI

集束イオンビーム加工観察装置

FB-200A

HITACHI